
WITec, světový lídr v nano-analytických microskopických systémech, představil novou funkci True Surface Microscopy.
Základní prvek tohoto revolučního zobrazovacího režimu je integrovaný senzor pro optickou profilometrii. Velkoplošné topografické souřadnice z profilometrického měření mohou být přesně korelovány s daty z velkoplošného konfokálního ramanovského zobrazování. Díky tomu je poprvé možné provádět Ramanovské zobrazování na površích s velkým sklonem nebo velmi drsných vzorcích s konstantně zaostřeným povrchem při zachování maximální konfokality. V novém zobrazovacím režimu lze v originálním stavu snadno a automaticky charakterizovat vzorky, které dříve vyžadovaly náročnou přípravu, aby bylo dosaženo dostatečně rovného povrchu. Ovládání systému stejně jako rozsáhlé vyhodnocení dat je integrováno do programů WITec Control WITec Project, zaručujících ověřenou jednoduchost používání.
“Integrovaná kombinace optické profilometrie a velkoplošného konfokálního ramanovského zobrazování je další revoluční skok ve špičkových mikroskopických systémech.” říká Dr. Olaf Hollricher, ředitel WITec pro R&D. “Pouze inherentně modulární konstrukce přístroje dovoluje takovéto snadné zabudování přelomové a komplementární zobrazovací metodiky do současné produktové řady ramanovských a AFM systémů.”
Profilometrické možnosti režimu True Surface Imaging umožňují skenování v rozsazích až 50x100 mm s prostorovým rozlišením v řádu 100 nm vertikálně a 10 µm laterálně. Měřicí vzdálenosti 10 mm a více poskytují větší flexibilitu v požadavcích na rozměry vzorků. V kombinaci s AFM může být profilometr použit i jako nástroj pro předběžné otestování topografických vlastností vzorku pro AFM zkoumání velkých vzorků s vysokým rozlišením. Celková výkonnost a výjimečně přesné zobrazovací schopnosti True Surface Microscopy jsou přínosné pro mnoho aplikací, včetně charakterizace mikromechanických, lékařských nebo polovodičových zařízení, mapování funkcionalizovaných povrchů nebo pro zobrazování vlastností povrchů biomedicínských nebo farmaceutických povrchů.
(c) Copyright 2010 CHEMagazín